臺積電與英特爾強強聯手，搶攻極紫外光微影系統（EUV）前段的多光束光罩寫入器。圖／美聯社
奧地利商艾美斯電子束科技（IMS）小檔案
臺積電與英特爾強強聯手，搶攻極紫外光（EUV）前段的多光束光罩寫入器。英特爾12日宣佈，將出售轉投資IMS（奧地利商艾美斯電子束科技）一成股權給臺積電；臺積電亦同步召開臨時董事會，決議斥資4.328億美元（約新臺幣140億元）內進行投資，預估本次釋股案將於第四季完成。
臺積電繼CoWoS後段製程搶攻AI市場版圖之後，積極擴展上游EUV前段商機，科技業者指出，臺積電與英特爾攜手，基本上兩方可能對未來技術發展取得一致性的目標，包括在代工及美國市場版圖的佈局有更進一步瞭解，並在2奈米制程技術上取得共識，臺積電藉此展開一條龍的佈局，向上遊發展，英特爾也可回防固守美國市場。
搶攻EUV前段商機
英特爾指出，2030年全球半導體市場規模上看1兆美元，其中，光刻技術的進步，例如EUV，對相關應用的前沿節點至關重要，並且這些光刻技術的進步依賴於先進的光罩寫入工具，這使得IMS的領先技術成爲整個生態系統創新的核心。
英特爾指出，臺積電對IMS的投資估值約爲43億美元，與最近向貝恩資本出售二成股權的估值一致。英特爾將保留IMS的多數股權，該公司將在首席執行官Elmar Platzgummer的領導下繼續作爲獨立子公司運營。
英特爾2009年投資IMS，2015年收購了剩餘股份，2023年6月，英特爾釋出IMS約20％的股份出售給貝恩資本。
IMS爲開發先進EUV所需的多光束光罩寫入工具領域的行業領導者，市佔率高達73％，該工具廣泛應用於支持最苛刻計算應用的前沿技術節點，例如人工智能（AI）和移動服務。
英特爾企業發展高級副總裁馬特·波里爾（Matt Poirier）表示，這項投資表明IMS正在開拓深入的行業合作，以推進領先節點的關鍵光刻技術，這將使整個半導體制造生態系統受益。
隨着獨立性的增強，IMS將處於有利地位，能夠在未來十年及更長時間內抓住多光束掩模寫入工具的重大增長機會。
臺積電業務開發高級副總裁張凱文表示，臺積電自2012年以來一直與IMS合作開發用於先進技術節點的多光束光罩寫入器。這項投資延續了臺積電與IMS之間的長期合作伙伴關係，以加速創新並實現更深入的跨行業合作。